Molybdenum Sputtering թիրախներ Maced Parts

Molybdenum Sputtering Target- ը թիրախային նյութ է, որն օգտագործվում է ֆիզիկական գոլորշիների տեղադրում (PVD) կամ Magnetron Sputtering (Sputtering) գործընթացներում: Molybdenum- ը մետաղական տարր է `լավ ջերմային հաղորդունակությամբ, կոռոզիոն դիմադրությամբ եւ մեխանիկական հատկություններով եւ, հետեւաբար, լայնորեն օգտագործվում է բարակ ֆիլմերի եւ ծածկույթների պատրաստման մեջ:

Molybdenum Sputtering թիրախները սովորաբար օգտագործվում են այնպիսի ֆունկցիոնալ ֆիլմերի պատրաստման համար, ինչպիսիք են հաղորդիչ ֆիլմերը, օպտիկական ֆիլմերը, կոռոզիոն դիմացկուն ֆիլմերը եւ այլն: Դրանք օգտագործվում են օպտիկական ոսպնյակների, օպտիկական ֆիլտրերի եւ այլ օպտիկական բաղադրիչների պատրաստման համար: Molybdenum Sputtering թիրախները պատրաստված են փոշու մետալուրգիայի, տաք սեղմման ձուլման, տաք իզոստատիկ ճնշմամբ եւ այլ մեթոդներ `բարձր մաքրություն, միատեսակություն եւ թիրախների խտություն ապահովելու համար:

Molybdenum Sputtering թիրախների առանձնահատկությունները եւ ձեւերը կարող են հարմարեցվել ըստ հաճախորդների կարիքների, եւ ընդհանուր ձեւերը ներառում են սկավառակ, քառակուսի, ուղղանկյուն եւ այլն: Օգտագործման ընթացքում անհրաժեշտ է խնամք, որպեսզի թիրախի մակերեսը մաքուր եւ բնակարան պահվի `որպեսզի ապահովի ցցի գործընթացի կայունությունը եւ կինոնկարի շերտի որակը: